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时间:2019-07-31 06:56  编辑:admin
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英特尔目前正遭受10纳米工艺的破坏性生产。虽然竞争对手台积电和三星将开始大规模生产7纳米工艺,但明年的主要工艺将是各种改进的14纳米版本。
英特尔是摩尔定律的倡导者,也是法律的最强倡导者。现在你需要找到真实的东西。他们在12家创业公司中投资了7200万美元,其中一家将在未来三年内得到解决。因此,EUV光刻工艺的光源问题以及因此该工艺可以扩展到一定水平。2纳米。
英特尔投资(英特尔
Capital今天宣布,它已在英特尔投资全球峰会上的12家初创公司中投资了7200万美元。从那时起,英特尔今年的投资目标已经达到了超过1亿美元的初始目标。
15亿美元。
英特尔没有透露如何将7200万美元分配给这12家公司,也没有提到哪家公司投资了这项投资。
根据该公司的公告,12家公司主要参与。人工智能产业如Avaamo,Fictiv,Gamalon,Syntiant,中国Reconova(厦门瑞威)。
云和物联网物联网行业,包括CloudGenix,VenueNext和两家中国公司Alauda,EspressifSystems。
基于硅的半导体,如Lyncean,Movellus和SiFive。
在与英特尔核心业务相关的三家公司中,Lyncean Technologies正在开发紧凑型光源系统(CLS)。目的是将X射线同步加速器减少200倍,并将加速器的尺寸从体育场减小到内部尺寸。
目前,该公司正在开发主要用于半导体光刻的新型EUV光源。
目前,限制EUV光刻设备的大规模应用的一个重要原因是光源的输出不足并且不能达到稳定大规模生产所需的250W强度。这也是一台EUV光刻机,因为未来需要更多的阻力来提高性能。
Lyncean的创始人表示他们开发的EUV源预计将在三年内上市,并可用于生产2 nm工艺半导体。
除Lyncean外,不应低估Movellus。他们正在开发只能用于自定义模拟设计的数字工具,以自动创建和实现功能。Movellus的工作可以提高SoC芯片创建和模拟电路设计的效率,减少设计和制造时间,减少中心区域,并降低错误率。它很小。
SiFive是基于RISC-V开源指令集的IP处理器提供商。该公司由RISC-V的创始人创立,由一群行业资深人士运营,以缩短芯片系统的上市时间。
英特尔表示,投资这12家公司将有助于改变计算的未来。“我们已经种植了几十年的种子。”
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